Для квантовых устройств нужно достигать милликелвинов и ниже: какие методы охлаждения (разделение тепловых связей, адсорбционные холодильники, демагнитизация) работают на таких шкалах и какие физические ограничения на температуру создают тепловые потоки и шумы?
Коротко — какие методы реально работают на мК и ниже, и какие физические ограничения задают нижний предел. Методы охлаждения и их типичные диапазоны - Разбавительный (dilution) холодильник (DR): достигает базовых температур ∼5–10 mK\sim 5\text{–}10\,\mathrm{mK}∼5–10mK в типичных установках; с оптимизацией можно опускать к нескольким mK\mathrm{mK}mK. Охлаждающая мощность на смешивающей чаше быстро падает с температурой (см. ниже). - Адсорбционные (гелий-3/гелий-4 или гелий-3 в адсорбционном насосе): применимы для промежуточных ступеней (~≳100 mK\gtrsim 100\,\mathrm{mK}≳100mK), редко дают стабильные ≪100 mK\ll 100\,\mathrm{mK}≪100mK. - Адэбатическая демагнетизация (ADR) на парамагнитных солях: легко даёт ∼10–50 mK\sim 10\text{–}50\,\mathrm{mK}∼10–50mK; в непрерывных схемах и с рекуперацией — ∼\sim∼десетки мК. Для более низких — используют ядерную демагнетизацию. Для идеального парамагнетика при адиабатическом снижении поля: Tf≈TiBfBi.T_f \approx T_i\frac{B_f}{B_i}.Tf≈TiBiBf. - Ядерная адиабатическая демагнетизация (nuclear demag): стандартный путь к μK\mu\mathrm{K}μK-диапазону (под ∼100 μK\sim 100\,\mu\mathrm{K}∼100μK и ниже) с использованием ядерных спинов (Cu, PrNi5_55 и т.п.). Требует предварительного предварительного охлаждения системой DR до нескольких мК. - Электронные охладители (NIS-усадки и криогенные фильтры): локальное охлаждение электронов в наноструктурах до ∼10–100 mK\sim 10\text{–}100\,\mathrm{mK}∼10–100mK при хорошей тепловой изоляции электронов от решётки; не заменяют холодильник для больших тепловых потоков. - Эвапоративное и испарительное охлаждение эффективны выше мК; для мК/μК применяют демагнетизацию и DR. Разделение тепловых связей и тепловые переключатели - Газоразрывные (gas-gap) переключатели: хороши в диапазоне ∼50–300 mK\sim 50\text{–}300\,\mathrm{mK}∼50–300mK, переключаются контролем давления газа. - Сверхпроводящие тепловые переключатели (связь через металл, переключение по полю/току): при переходе в сверхпроводящее состояние теплопроводность резко падает; полезны для отсоединения на самых низких температурах. - Механические переключатели: высокая контрольноть, но сложные и медленные. Назначение — обеспечить жёсткую теплоразвязку термоаппликата (кристалла) от более тёплых стадий, а на этапе предохлаждения обеспечить контакт для сброса тепла. Физические ограничения (источники тепловых потоков и шумов) и их масштабирование 1) Теплопроводность проводников (проводники/провода): тепловый поток вдоль провода определяется интегралом теплопроводности: Q˙=∫TcThK(T) dT.\dot Q=\int_{T_c}^{T_h} K(T)\,dT.Q˙=∫TcThK(T)dT. Для электронного вклада металлов при низких TTT теплопроводность пропорциональна TTT (Wiedemann–Franz): Kel=L0RT,K_{\rm el}=\frac{L_0}{R}T,Kel=RL0T, где L0=π2kB23e2L_0=\frac{\pi^2 k_B^2}{3e^2}L0=3e2π2kB2 — постоянная Вида, RRR — электрическое сопротивление участка. Следствие: тепловые утечки по проводам обычно масштабируются как ∝T2\propto T^2∝T2 при интегрировании по температуре. Для минимизации — использовать тонкие высокоомные проводники, ферромагнитные фильтры, длинные тепловые маятники и ступени тепловой разводки. 2) Электрон—фон (electron–phonon) теплоперенос: мощность передачи от электронов к фононам в металле описывается: Q˙e−ph=ΣV (Ten−Tphn),\dot Q_{e-ph}=\Sigma V\,(T_e^n-T_{ph}^n),Q˙e−ph=ΣV(Ten−Tphn), где обычно n≈5n\approx 5n≈5, Σ\SigmaΣ — материал-зависимая константа, VVV — объём. При низких TTT этот канал быстро слабее и задаёт ограничение на охлаждение электронов (электронная температура может быть выше фоновой). 3) Капитца-терминальное сопротивление (Kapitza resistance) на границе металл—диэлектрик: тепловое сопротивление растёт при падении TTT примерно как RK∝T−3R_K\propto T^{-3}RK∝T−3; это затрудняет передачу тепла от кристалла к холодной шайбе при mK\mathrm{mK}mK. 4) Квант тепловой проводимости: при очень низких температурах и при малом числе мод теплоэффективный квант: GQ=π2kB2T3hG_Q=\frac{\pi^2 k_B^2 T}{3h}GQ=3hπ2kB2T на одну квантованную тепловую моду; задаёт фундаментальный предел пропускной способности каналов. 5) Фотонный (микроволновый) теплоперенос и шум: тепловые фотоны по кабелям/волноводам несут энергию. В классическом пределе тепловая мощность за полосой BBB — P≈kBTBP\approx k_B T BP≈kBTB; в квантовом пределе требуется учитывать спектр: среднее число фотонов ⟨n⟩=(eℏω/kBT−1)−1\langle n\rangle=(e^{\hbar\omega/k_B T}-1)^{-1}⟨n⟩=(eℏω/kBT−1)−1. Для СВЧ-оматчивания тепловой поток может быть существенным, поэтому ставят аттенюаторы на каждой температурной ступени, фильтры и термально располагают рассеяние мощности на промежуточных стадиях. 6) Джонсон–Найквистов шум резисторов: спектральная плотность напряжения SV=4kBTRS_V=4k_B T RSV=4kBTR и связанная тепловая мощность/шум, который может поглощаться системой и нагревать её. 7) Космические лучи, радиоактивность, релаксация примесей и TLS (двухуровневые системы) в изоляторах: редкие импульсные события дают внезапные тепловые вбросы и фоновый «деградационный» тепловой фон (тепловая задержка материалов), ограничивая стабильность при μK\mu\mathrm{K}μK. Баланс мощности и базовая температура - Базовая температура достигается, когда суммарная подводимая мощность Q˙leak\dot Q_{\rm leak}Q˙leak уравновешена доступной охлаждающей мощностью Q˙cool(T)\dot Q_{\rm cool}(T)Q˙cool(T). Для малого теплообъёма, если теплоёмкость C(T)C(T)C(T) мала, малый Q˙leak\dot Q_{\rm leak}Q˙leak может поднять TTT значительно. - Пример масштабирования для DR: охлаждающая мощность на смешивании примерно пропорциональна T2T^2T2 (при фиксированном потоке 3^33He), поэтому при снижении TTT требуемая герметизация и минимизация Q˙leak\dot Q_{\rm leak}Q˙leak становятся критическими. Практические меры уменьшения утечек и шума (кратко) - Многоступенчатая термоизоляция: несколько радиационных экранов и теплых/холодных ступеней. - Термические «маячки» и attenuators/термальные фильтры на каждой стадии для микроволновых линий; использование тонких сверхпроводящих проводников для снижения теплопроводности и джоулева нагрева. - Использование адиабатических/сверхпроводящих/газоразрывных переключателей для подключения/отключения ступеней при подготовке/работе. - Материалы с низкой релаксацией тепла (низкий TLS), хорошая термообработка (отжиг), экранирование от радиации и вибраций. - Локальное электронное охлаждение (NIS) для снижения TeT_eTe в малых объёмах, если электронная система плохо термализируется. Короткий итог - Для ∼\sim∼мК: основной рабочий инструмент — dilution refrigerator ± ADR/адсорбция; для ≲10 mK\lesssim 10\,\mathrm{mK}≲10mK обычны DR + ADR; для μK\mu\mathrm{K}μK — ядерная демагнетизация. - Нижний предел задают суммарные тепловые утечки по проводам и фотонные потоки, слабая electron–phonon связь и границы (Kapitza), джонсон-шум и редкие тепловые вбросы; все эти каналы имеют сильную температурную зависимость (TTT, T3T^3T3, T5T^5T5 и т.д.), поэтому при mK\mathrm{mK}mK и ниже критично минимизировать даже нано-ваттные утечки.
Методы охлаждения и их типичные диапазоны
- Разбавительный (dilution) холодильник (DR): достигает базовых температур ∼5–10 mK\sim 5\text{–}10\,\mathrm{mK}∼5–10mK в типичных установках; с оптимизацией можно опускать к нескольким mK\mathrm{mK}mK. Охлаждающая мощность на смешивающей чаше быстро падает с температурой (см. ниже).
- Адсорбционные (гелий-3/гелий-4 или гелий-3 в адсорбционном насосе): применимы для промежуточных ступеней (~≳100 mK\gtrsim 100\,\mathrm{mK}≳100mK), редко дают стабильные ≪100 mK\ll 100\,\mathrm{mK}≪100mK.
- Адэбатическая демагнетизация (ADR) на парамагнитных солях: легко даёт ∼10–50 mK\sim 10\text{–}50\,\mathrm{mK}∼10–50mK; в непрерывных схемах и с рекуперацией — ∼\sim∼десетки мК. Для более низких — используют ядерную демагнетизацию. Для идеального парамагнетика при адиабатическом снижении поля: Tf≈TiBfBi.T_f \approx T_i\frac{B_f}{B_i}.Tf ≈Ti Bi Bf .
- Ядерная адиабатическая демагнетизация (nuclear demag): стандартный путь к μK\mu\mathrm{K}μK-диапазону (под ∼100 μK\sim 100\,\mu\mathrm{K}∼100μK и ниже) с использованием ядерных спинов (Cu, PrNi5_55 и т.п.). Требует предварительного предварительного охлаждения системой DR до нескольких мК.
- Электронные охладители (NIS-усадки и криогенные фильтры): локальное охлаждение электронов в наноструктурах до ∼10–100 mK\sim 10\text{–}100\,\mathrm{mK}∼10–100mK при хорошей тепловой изоляции электронов от решётки; не заменяют холодильник для больших тепловых потоков.
- Эвапоративное и испарительное охлаждение эффективны выше мК; для мК/μК применяют демагнетизацию и DR.
Разделение тепловых связей и тепловые переключатели
- Газоразрывные (gas-gap) переключатели: хороши в диапазоне ∼50–300 mK\sim 50\text{–}300\,\mathrm{mK}∼50–300mK, переключаются контролем давления газа.
- Сверхпроводящие тепловые переключатели (связь через металл, переключение по полю/току): при переходе в сверхпроводящее состояние теплопроводность резко падает; полезны для отсоединения на самых низких температурах.
- Механические переключатели: высокая контрольноть, но сложные и медленные.
Назначение — обеспечить жёсткую теплоразвязку термоаппликата (кристалла) от более тёплых стадий, а на этапе предохлаждения обеспечить контакт для сброса тепла.
Физические ограничения (источники тепловых потоков и шумов) и их масштабирование
1) Теплопроводность проводников (проводники/провода): тепловый поток вдоль провода определяется интегралом теплопроводности: Q˙=∫TcThK(T) dT.\dot Q=\int_{T_c}^{T_h} K(T)\,dT.Q˙ =∫Tc Th K(T)dT. Для электронного вклада металлов при низких TTT теплопроводность пропорциональна TTT (Wiedemann–Franz): Kel=L0RT,K_{\rm el}=\frac{L_0}{R}T,Kel =RL0 T, где L0=π2kB23e2L_0=\frac{\pi^2 k_B^2}{3e^2}L0 =3e2π2kB2 — постоянная Вида, RRR — электрическое сопротивление участка. Следствие: тепловые утечки по проводам обычно масштабируются как ∝T2\propto T^2∝T2 при интегрировании по температуре. Для минимизации — использовать тонкие высокоомные проводники, ферромагнитные фильтры, длинные тепловые маятники и ступени тепловой разводки.
2) Электрон—фон (electron–phonon) теплоперенос: мощность передачи от электронов к фононам в металле описывается: Q˙e−ph=ΣV (Ten−Tphn),\dot Q_{e-ph}=\Sigma V\,(T_e^n-T_{ph}^n),Q˙ e−ph =ΣV(Ten −Tphn ), где обычно n≈5n\approx 5n≈5, Σ\SigmaΣ — материал-зависимая константа, VVV — объём. При низких TTT этот канал быстро слабее и задаёт ограничение на охлаждение электронов (электронная температура может быть выше фоновой).
3) Капитца-терминальное сопротивление (Kapitza resistance) на границе металл—диэлектрик: тепловое сопротивление растёт при падении TTT примерно как RK∝T−3R_K\propto T^{-3}RK ∝T−3; это затрудняет передачу тепла от кристалла к холодной шайбе при mK\mathrm{mK}mK.
4) Квант тепловой проводимости: при очень низких температурах и при малом числе мод теплоэффективный квант: GQ=π2kB2T3hG_Q=\frac{\pi^2 k_B^2 T}{3h}GQ =3hπ2kB2 T на одну квантованную тепловую моду; задаёт фундаментальный предел пропускной способности каналов.
5) Фотонный (микроволновый) теплоперенос и шум: тепловые фотоны по кабелям/волноводам несут энергию. В классическом пределе тепловая мощность за полосой BBB — P≈kBTBP\approx k_B T BP≈kB TB; в квантовом пределе требуется учитывать спектр: среднее число фотонов ⟨n⟩=(eℏω/kBT−1)−1\langle n\rangle=(e^{\hbar\omega/k_B T}-1)^{-1}⟨n⟩=(eℏω/kB T−1)−1. Для СВЧ-оматчивания тепловой поток может быть существенным, поэтому ставят аттенюаторы на каждой температурной ступени, фильтры и термально располагают рассеяние мощности на промежуточных стадиях.
6) Джонсон–Найквистов шум резисторов: спектральная плотность напряжения SV=4kBTRS_V=4k_B T RSV =4kB TR и связанная тепловая мощность/шум, который может поглощаться системой и нагревать её.
7) Космические лучи, радиоактивность, релаксация примесей и TLS (двухуровневые системы) в изоляторах: редкие импульсные события дают внезапные тепловые вбросы и фоновый «деградационный» тепловой фон (тепловая задержка материалов), ограничивая стабильность при μK\mu\mathrm{K}μK.
Баланс мощности и базовая температура
- Базовая температура достигается, когда суммарная подводимая мощность Q˙leak\dot Q_{\rm leak}Q˙ leak уравновешена доступной охлаждающей мощностью Q˙cool(T)\dot Q_{\rm cool}(T)Q˙ cool (T). Для малого теплообъёма, если теплоёмкость C(T)C(T)C(T) мала, малый Q˙leak\dot Q_{\rm leak}Q˙ leak может поднять TTT значительно.
- Пример масштабирования для DR: охлаждающая мощность на смешивании примерно пропорциональна T2T^2T2 (при фиксированном потоке 3^33He), поэтому при снижении TTT требуемая герметизация и минимизация Q˙leak\dot Q_{\rm leak}Q˙ leak становятся критическими.
Практические меры уменьшения утечек и шума (кратко)
- Многоступенчатая термоизоляция: несколько радиационных экранов и теплых/холодных ступеней.
- Термические «маячки» и attenuators/термальные фильтры на каждой стадии для микроволновых линий; использование тонких сверхпроводящих проводников для снижения теплопроводности и джоулева нагрева.
- Использование адиабатических/сверхпроводящих/газоразрывных переключателей для подключения/отключения ступеней при подготовке/работе.
- Материалы с низкой релаксацией тепла (низкий TLS), хорошая термообработка (отжиг), экранирование от радиации и вибраций.
- Локальное электронное охлаждение (NIS) для снижения TeT_eTe в малых объёмах, если электронная система плохо термализируется.
Короткий итог
- Для ∼\sim∼мК: основной рабочий инструмент — dilution refrigerator ± ADR/адсорбция; для ≲10 mK\lesssim 10\,\mathrm{mK}≲10mK обычны DR + ADR; для μK\mu\mathrm{K}μK — ядерная демагнетизация.
- Нижний предел задают суммарные тепловые утечки по проводам и фотонные потоки, слабая electron–phonon связь и границы (Kapitza), джонсон-шум и редкие тепловые вбросы; все эти каналы имеют сильную температурную зависимость (TTT, T3T^3T3, T5T^5T5 и т.д.), поэтому при mK\mathrm{mK}mK и ниже критично минимизировать даже нано-ваттные утечки.