На уровне квантовой механики объясните, почему туннелирование через потенциальный барьер зависит экспоненциально от ширины барьера и массы частицы, и приведите примеры применений этого явления в современных технологиях
Туннелирование — это чисто волновой эффект: волновая функция частицы в классическом запрещённой области становится затухающей экспоненциальной, поэтому вероятность проникновения через барьер падает экспоненциально с «толщиной» барьера и зависит от массы через скорость затухания. Краткое объяснение через одномерное уравнение Шрёдингера: −ℏ22md2ψdx2+V(x)ψ=Eψ.
-\frac{\hbar^2}{2m}\frac{d^2\psi}{dx^2}+V(x)\psi=E\psi. −2mℏ2dx2d2ψ+V(x)ψ=Eψ.
В области, где V(x)>EV(x)>EV(x)>E, вводя κ(x)=2m(V(x)−E)ℏ2\kappa(x)=\sqrt{\frac{2m\bigl(V(x)-E\bigr)}{\hbar^2}}κ(x)=ℏ22m(V(x)−E), общее решение содержит экспоненциально затухающую компоненту ψ∝e−∫κ(x) dx\psi\propto e^{-\int \kappa(x)\,dx}ψ∝e−∫κ(x)dx. Для прямоугольного барьера высоты V0V_0V0 и ширины aaa при E<V0E<V_0E<V0: κ=2m(V0−E)ℏ2,T∼e−2κa(для большого барьера).
\kappa=\sqrt{\frac{2m(V_0-E)}{\hbar^2}},\qquad T\sim e^{-2\kappa a}\quad(\text{для большого барьера}). κ=ℏ22m(V0−E),T∼e−2κa(длябольшогобарьера).
В более общем (WKB) приближении коэффициент прохождения даётся T≈exp (−2∫x1x2κ(x) dx),
T\approx\exp\!\Big(-2\int_{x_1}^{x_2}\kappa(x)\,dx\Big), T≈exp(−2∫x1x2κ(x)dx),
где x1,x2x_1,x_2x1,x2 — точки классического обращения. Отсюда очевидно: размер экспоненты линейно зависит от ширины интегрального интервала и от κ\kappaκ, а κ∝m\kappa\propto\sqrt{m}κ∝m, поэтому тяжелые частицы туннелируют экспоненциально хуже, а увеличение ширины барьера даёт экспоненциальное подавление прохождения. Ключевые физические следствия: - масса mmm входит под корень в κ\kappaκ → T∝exp(−const⋅m a)T\propto\exp(-\mathrm{const}\cdot\sqrt{m}\,a)T∝exp(−const⋅ma); - энергия EEE приближающаяся к VVV уменьшает κ\kappaκ → рост TTT; - форма барьера влияет через интеграл ∫κ(x) dx\int\kappa(x)\,dx∫κ(x)dx. Примеры применений: - сканирующий туннельный микроскоп (STM): ток I∝e−2κsI\propto e^{-2\kappa s}I∝e−2κs даёт атомное разрешение при изменении зазора sss; - туннельные и резонансные диоды (быстрая нелинейная электроника); - Джозефсоновы переходы и сверхпроводящие кубиты (туннелирование пар Купера задаёт Josephson-токи и квантовые переходы); - флеш-память и EEPROM: пробой/запись через тонкий диэлектрик реализуется за счёт туннелирования (Fowler–Nordheim); - магнитные туннельные переходы (MTJ) в MRAM — туннелирование спин-поляризованных электронов; - туннельные полевые транзисторы (TFET) для низкопотребляющей электроники; - альфа-распад в ядерной физике и полевая эмиссия электронов в источниках электронов. Таким образом экспоненциальная зависимость следует прямо из затухания волновой функции в запрещённой области и объясняет чувствительность туннельных явлений к массе и толщине барьера, что делает туннелирование и его управление полезным в широком спектре технологий.
Краткое объяснение через одномерное уравнение Шрёдингера:
−ℏ22md2ψdx2+V(x)ψ=Eψ. -\frac{\hbar^2}{2m}\frac{d^2\psi}{dx^2}+V(x)\psi=E\psi.
−2mℏ2 dx2d2ψ +V(x)ψ=Eψ. В области, где V(x)>EV(x)>EV(x)>E, вводя κ(x)=2m(V(x)−E)ℏ2\kappa(x)=\sqrt{\frac{2m\bigl(V(x)-E\bigr)}{\hbar^2}}κ(x)=ℏ22m(V(x)−E) , общее решение содержит экспоненциально затухающую компоненту ψ∝e−∫κ(x) dx\psi\propto e^{-\int \kappa(x)\,dx}ψ∝e−∫κ(x)dx. Для прямоугольного барьера высоты V0V_0V0 и ширины aaa при E<V0E<V_0E<V0 :
κ=2m(V0−E)ℏ2,T∼e−2κa(для большого барьера). \kappa=\sqrt{\frac{2m(V_0-E)}{\hbar^2}},\qquad T\sim e^{-2\kappa a}\quad(\text{для большого барьера}).
κ=ℏ22m(V0 −E) ,T∼e−2κa(для большого барьера). В более общем (WKB) приближении коэффициент прохождения даётся
T≈exp (−2∫x1x2κ(x) dx), T\approx\exp\!\Big(-2\int_{x_1}^{x_2}\kappa(x)\,dx\Big),
T≈exp(−2∫x1 x2 κ(x)dx), где x1,x2x_1,x_2x1 ,x2 — точки классического обращения. Отсюда очевидно: размер экспоненты линейно зависит от ширины интегрального интервала и от κ\kappaκ, а κ∝m\kappa\propto\sqrt{m}κ∝m , поэтому тяжелые частицы туннелируют экспоненциально хуже, а увеличение ширины барьера даёт экспоненциальное подавление прохождения.
Ключевые физические следствия:
- масса mmm входит под корень в κ\kappaκ → T∝exp(−const⋅m a)T\propto\exp(-\mathrm{const}\cdot\sqrt{m}\,a)T∝exp(−const⋅m a);
- энергия EEE приближающаяся к VVV уменьшает κ\kappaκ → рост TTT;
- форма барьера влияет через интеграл ∫κ(x) dx\int\kappa(x)\,dx∫κ(x)dx.
Примеры применений:
- сканирующий туннельный микроскоп (STM): ток I∝e−2κsI\propto e^{-2\kappa s}I∝e−2κs даёт атомное разрешение при изменении зазора sss;
- туннельные и резонансные диоды (быстрая нелинейная электроника);
- Джозефсоновы переходы и сверхпроводящие кубиты (туннелирование пар Купера задаёт Josephson-токи и квантовые переходы);
- флеш-память и EEPROM: пробой/запись через тонкий диэлектрик реализуется за счёт туннелирования (Fowler–Nordheim);
- магнитные туннельные переходы (MTJ) в MRAM — туннелирование спин-поляризованных электронов;
- туннельные полевые транзисторы (TFET) для низкопотребляющей электроники;
- альфа-распад в ядерной физике и полевая эмиссия электронов в источниках электронов.
Таким образом экспоненциальная зависимость следует прямо из затухания волновой функции в запрещённой области и объясняет чувствительность туннельных явлений к массе и толщине барьера, что делает туннелирование и его управление полезным в широком спектре технологий.